湿电子化学品
公司通过科技创新，自主研发生产超净高纯湿电子化学品全产品，主要应用于面板、半导体、光伏、新能源等领域。产品包括电子级稀释剂、电子级剥离液、电子级NMP、铝蚀刻液、铜蚀刻液和显影液等，质量达到国内国际先进水平。
| 蚀刻液 |
| 种 类： | 铝蚀刻液/ITO蚀刻液/铜蚀刻液 |
| 常用成分： | 三氯化钠、醋酸、盐酸、硝酸、双氧水 |
| 作 用： | 除去已显影的固体物质 |
| 工艺位置： | 显影后 |
| 剥离液 |
| 种 类： |
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| 常用成分： | 氢氧化钾、有机试剂（DMSO、MEA） |
| 作 用： | 剥离未显影的光刻胶 |
| 工艺位置： | 蚀刻后 |
| 清洗剂 |
| 种 类： |
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| 常用成分： | 丙酮、异丙醇、无机清洗剂等 |
| 作 用： | 清洗表面沾污、杂质 |
| 工艺位置： | 工艺多流程 |
| 显影液 |
| 种 类： |
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| 常用成分： | 四甲基氢氧化铵、氢氧化钾、氢氧化钠 |
| 作 用： | 洗去光刻胶 |
| 工艺位置： | 光刻后 |
| 抛光液 |
| 种 类： |
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| 常用成分： | 硫酸、硝酸、硫酸铜、双氧水等 |
| 作 用： | 增强基底平整度 |
| 工艺位置： | 抛光后 |
